Lucent Technologies zaprezentowała eksperymentalny układ pamięci Flash o wymiarach elementów wynoszących 0,08 mikrometra. Jak twierdzą przedstawiciele firmy, układ został wykonany przy wykorzystaniu klasycznej, optycznej technologii litograficznej, której graniczna, fizyczna rozdzielczość była dotąd oceniana na 0,12 mikrometra.

Jeśli Lucent opracuje metodę umożliwiającą uruchomienie masowej produkcji układów półprzewodnikowych o tak wysokiej gęstości, może to mieć duży wpływ na rynek mikroprocesorowy. Standardem jest obecnie technologia 0,25 mikrometra, choć jeszcze w tym roku mają ruszyć linie do masowej produkcji układów wykorzystujące technologię 0,18 mikrometra. Choć dalsze zmniejszanie wymiarów elementów półprzewodnikowych nie stanowi problemu z punktu widzenia fizyki, to potencjalny koszt budowy takich linii do wytwarzania mikroprocesorów lub pamięci był dotąd zbyt wysoki. Zastosowanie klasycznych rozwiązań może oznaczać właśnie zmniejszenie kosztów i przyspieszenie momentu, gdy opłacalna stanie się produkcja układów o wymiarach mniejszych niż 0,10 mikrometra.