Computerworld.pl
Konferencje
Badania redakcyjne
Tematy
Agile
AI (Artificial Intelligence)
Aplikacje Biznesowe
Bezpieczeństwo
Big Data
Cloud Computing
DataCenter
SDN
Sieci
Smart City
Sprzęt B2B
Praca w IT
Przemysł 4.0
Digital Leaders
Badanie AudIT
Biblioteka IT
TOP200
Strefy tematyczne
Efektywna praca hybrydowa
Sieci w logistyce
Raportowanie ESG - wszystko, co trzeba wiedzieć
Atman 30 lat Internetu komercyjnego
×
Szukaj
Konferencje
Wiadomości
CIO Executive
Podcasty
Badania redakcyjne
Okiem Prezesa
Wywiady
Badanie AudIT
Biblioteka IT
Praca w IT
Tematy
Agile
AI (Artificial Intelligence)
Aplikacje Biznesowe
Bezpieczeństwo
Big Data
Cloud Computing
DataCenter
SDN
Sieci
Smart City
Sprzęt B2B
Praca w IT
Przemysł 4.0
Digital Leaders
Strefy tematyczne
Efektywna praca hybrydowa
Sieci w logistyce
Raportowanie ESG - wszystko, co trzeba wiedzieć
Atman 30 lat Internetu komercyjnego
TOP200
Kiosk
Archiwum
Newslettery
Strona główna
Temat
EUV
Temat: EUV
Powstała najnowocześniejsza na świecie fabryka chipów
Janusz Chustecki
Intel informuje, że oddał do eksploatacji najnowocześniejszą na świecie fabrykę układów scalonych, której sercem jest unikatowy skaner litograficzny High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet.
W Europie uruchomiono jeden z najnowocześniejszych na świecie litografów
Janusz Chustecki
Kilka dni temu ruszyło w Irlandii (w mieście Leixlip w chrabstwie Kildare) urządzenie EUV (Extreme Ultraviolet Lithography), które produkuje układy scalone wykorzystując do tego celu promienie świetlne o długości 13,5 nanometra. Jest to pierwszy tego typu skaner litograficzny zainstalowany w Europie.
Intel: prawo Moore'a dalej obowiązuje
Janusz Chustecki
Korporacja daje jasny sygnał, że prawo Moore'a nie jest martwe, zapowiadając rychłą budowę pilotażowej fabryki, z taśm której jeszcze w tym roku zaczną schodzić układy scalone wytwarzane przez użyciu technologii 7 nanometrów i nowej litograficznej techniki EUV (Extreme Ultraviolet Lithography).
Reklama zamknie się za 15 sekund. Przejdź do serwisu »