Paul Otellini, prezes Intela oficjalnie potwierdził, że firma zamierza zbudować w Dalian w Chinach zakład Fab 68 wytwarzający układy półprzewodnikowe. Inwestycja ma wartość 2,5 miliarda USD, a uruchomienie fabryki jest planowane na pierwszą połowę 2010 roku.

Zakłady w Dalian mają początkowo wytwarzać tylko chipsety i to przy wykorzystaniu technologii 90-nanometrowej, a więc względnie starej. Obecnie firma najczęściej stosuje technologię 65-nanometrowa, a najprawdopodobniej już w tym roku pojawią się linie produkcyjne wykorzystujące proces 45-nanometrowy. Na razie Intel nie ujawnił czy w chińskiej Fab 68 będą produkowane także procesory.

"Jedną z rzeczy których chcemy się nauczyć w Chinach, to jak uzyskać bardzo niskie koszty produkcji" - przyznał Paul Otellini podczas konferencji prasowej w Pekinie. Koszty pracy to jednakże niewielka część kosztów całkowitych, a większość z nich jest związana z wyposażeniem w oprzyrządowanie linii produkcyjnych, a te wydatki są praktycznie takie same na całym świecie niezależnie od lokalizacji fabryki. W ten sposób Paul Otellini pośrednio przyznał, że na decyzję o lokalizacji duży wpływ miało wsparcie (również finansowe) ze strony rządu chińskiego, który od lat zabiegał u Intela o taką inwestycję.

Intel ma obecnie licencję od rządu USA na eksport i wykorzystanie w Chinach technologii 90-nanometrowej w 2009 roku. Ale być może, gdy fabryka zostanie uruchomiona, możliwy już będzie eksport technologii 65-nanometrowej. Ostatnio Intel, aby zahamować spadek udziałów w rynku, przyspieszył inwestycje i plany wprowadzania nowych generacji technologii. Według zapowiedzi przedstawicieli tej firmy już w 2009 roku mają zostać uruchomione linie 32-nanometrowe, a w 2011 - 23-nanometrowe. Jeśli firma zrealizuje te plany, to procesy 65-nanometrowe mogą być w 2010 roku o dwie lub nawet trzy generacje starsze od najnowszych technologii. Wówczas zgoda rządu USA, który ściśle kontroluje eksport tego typu zaawansowanych technologii, które mogą mieć zastosowania militarne, jest bardzo prawdopodobna.

Nie należy jednak sądzić, że tylko najnowsze technologie są przydatne i wykorzystywane do wytwarzania mikroukładów półprzewodnikowych - obecnie Intel wciąż utrzymuje produkcję w zakładach Leixlip w Irlandii, gdzie pracują linie 0,13-, 0,18-, 0,25- i 0,35-mikrometrowe, a w fabryce w Jerusalem od 1989 roku do chwili obecnej wykorzystywany jest nawet proces 1-mikrometrowy (produkowane są tam układy specjalizowanych kontrolerów oraz inne mikroukłady elektro-mechaniczne).